| 專利名稱 |
基于相位調(diào)制的微透鏡陣列式深度學(xué)習(xí)三維鬼成像方法 |
| 申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào) |
CN202110345948.0 |
專利權(quán)人（第一權(quán)利人） |
吉林工程技術(shù)師范學(xué)院 |
| 申請(qǐng)日 |
2021-03-31 |
授權(quán)日 |
2022-09-02 |
| 專利類別 |
授權(quán)發(fā)明 |
戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)分類 |
雙五星 |
| 技術(shù)主題 |
三維圖像|透鏡陣列|深度學(xué)習(xí)|散斑場|微透鏡陣列|幽靈成像|相位調(diào)制|神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)|三維成像|影像診斷學(xué) |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 |
神經(jīng)架構(gòu)|立體系統(tǒng)|神經(jīng)學(xué)習(xí)方法 |
| 意向價(jià)格 |
具體面議 |
| 專利概述 |
本發(fā)明公開了一種基于相位調(diào)制的微透鏡陣列式深度學(xué)習(xí)三維鬼成像方法，該方法的過程為：預(yù)先利用樣本集訓(xùn)練神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型；目標(biāo)物體發(fā)出的寬帶熱光進(jìn)入前置成像模塊，并在前置成像模塊的成像面形成目標(biāo)物體的二維圖像；將微透鏡陣列式空間光相位調(diào)制模塊置于成像面位置，目標(biāo)物體的二維圖像經(jīng)過微透鏡陣列式空間光相位調(diào)制模塊調(diào)制成散斑場陣列；探測(cè)模塊采集所述散斑場陣列并將送入圖像重構(gòu)模塊；圖像重構(gòu)模塊根據(jù)其接收到的散斑場陣列利用預(yù)先訓(xùn)練好的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型進(jìn)行圖像重構(gòu)，形成目標(biāo)物體的三維圖像。本發(fā)明采用神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)和深度學(xué)習(xí)實(shí)現(xiàn)圖像重構(gòu)，省去傳統(tǒng)基于相位調(diào)制的關(guān)聯(lián)成像的標(biāo)定過程，可以極大的縮短重構(gòu)時(shí)間，實(shí)現(xiàn)三維成像。 |
| 圖片資料 |
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| 合作方式 |
擬許可 |
| 聯(lián)系人 |
戚梅宇 |
聯(lián)系電話 |
13074363281 |
